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      產(chǎn)品資料
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      日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器

      產(chǎn)品名稱: 日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器
      產(chǎn)品型號:
      產(chǎn)品特點: 日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器
      ?型號NanoCVD-8G(用于石墨烯合成)
      ?型號NanoCVD-8N(用于碳納米管)
      無需使用大型制造設(shè)備,每批只需30分鐘即可輕松實現(xiàn)石墨烯/ CNT合成。
      CVD方法(化學(xué)氣相沉積)
      CVD法是已經(jīng)為多種目的而建立的穩(wěn)定技術(shù),并且當考慮將來石墨烯和CNT的大規(guī)模合成時是現(xiàn)實的方法。

      日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器 的詳細介紹

      日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器

       

      特性

      • 無需使用大型制造設(shè)備即可輕松進行石墨烯/ CNT(SWNT)成膜實驗。
      • 每批僅30分鐘!
      • 冷壁型高效,高精度的過程控制
      • 快速升溫:RT→1100℃/約3分鐘
      • 具有高精度溫度流量控制和出色重現(xiàn)性的高性能機器
      • 操作簡便!5英寸觸摸屏可進行操作和配方管理
      • 多可以創(chuàng)建和保存30個配方,30個合成程序步驟
      • 軟件為標準設(shè)備,輸出為CSV文件在PC上記錄數(shù)據(jù)
      • USB電纜連接,在PC端創(chuàng)建配方→可以上傳到設(shè)備
       
         
         
       

      外型尺寸

       
         
         
       

      主要規(guī)格

      A.主要規(guī)格 
      1.反應(yīng)室 不銹鋼SUS304泄漏檢查
      2.加熱階段 陶瓷制成
      3.相應(yīng)的樣本量 20 x 40毫米
      4.加熱加熱器 高純石墨加熱器Max1050℃
      5.溫度控制 K型熱電偶標準附件(安裝在加熱臺下)
        
      B.過程控制設(shè)備規(guī)格 
      1.氣體控制 質(zhì)量流量控制器x 3(Ar,H2,CH4)
      2.壓力控制 20托FS
      3.真空排氣 包括愛德華茲旋轉(zhuǎn)泵RV3(3立方米/小時)
      4.操作面板 正面安裝5英寸觸摸屏(歐姆龍制造)
      5.風冷 用冷卻風扇冷卻外殼內(nèi)部
      6.控制系統(tǒng) PLC自動過程控制
        
      C.軟件(標準附件) 
      1. nanoCVD軟件 標配(已安裝石墨烯的標準程序)
      2.界面 USB 2.0連接
      3.設(shè)置數(shù) 多30個配方,30個程序創(chuàng)建和保存步驟
        
      D.氣體導(dǎo)入連接規(guī)格 
      1.工藝氣體 1/4英寸世偉洛克卡套管接口,用于Ar,H2,CH4 x 3
      2.載氣 Φ6mm推鎖式管接頭,用于N2或Ar x 1
        
      E.安全裝置 
      1.過熱 由加熱臺安裝熱電偶控制
      2.機殼內(nèi)部過熱 從內(nèi)部溫度開關(guān)
      3.氣壓異常 來自質(zhì)量流量控制器
      4.真空度降低 來自真空傳感器
        
      F.實用程序 
      電源 AC200V單相50 / 60Hz 13A
      1.工藝氣壓 30psi 200sccm以下
      2.載氣壓力 60-80磅/平方英寸
        
      G.尺寸/重量 
      1.尺寸 405mm(寬)x 415mm(深)x 280mm(高)
      2.重量 約27公斤
       
         

      nanoCVD-8G(石墨烯)

      納米CVD-8N(CNT)


      帶旋轉(zhuǎn)泵的nanoCVD-8G

      通過CVD化學(xué)氣相沉積法在短時間內(nèi)在金屬基底催化劑(Cu,Ni箔等)上合成單層石墨烯膜。nanoCVD-8G的基本操作方案是在石墨平臺上以醉高1100°C的高溫烘烤,并在減壓下供應(yīng)原料氣體(甲烷),氮氣和氫氣。

      ◇◆標準設(shè)備配置◆◇

      • ●用于石墨烯生成,真空過程控制
      • 標配旋轉(zhuǎn)泵(選件:TMP,擴散泵或干泵)
      •  3個供氣系統(tǒng)(標準)
      • 樣品臺大1100℃
      •  K型熱電偶


      *以下選項也可滿足其他要求的實驗?zāi)康模▎为氂懻摚?/p>

      • 增加氣體導(dǎo)入口(改變和增加氣體種類)
      • 增加干泵系統(tǒng)
      • 增加額外的腔室/加熱臺并改變臺結(jié)構(gòu)

       


      使用nanoCVD-8G樣品加熱臺] [nanoCVD-8G后面板]生產(chǎn)的石墨烯的拉曼光譜


      日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器

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