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      技術(shù)文章

      硅晶片上的氧化膜、抗蝕劑等自動(dòng)膜厚檢測設(shè)備介紹

      硅晶片上的氧化膜、抗蝕劑等自動(dòng)膜厚檢測設(shè)備介紹

      F60 Alignment自動(dòng)膜厚測量系統(tǒng)
      F60自動(dòng)映射膜厚測量系統(tǒng)是F50的機(jī)型,具有缺口檢測、自動(dòng)基線功能和聯(lián)鎖機(jī)構(gòu)。
      只需將樣品放在載物臺(tái)上并單擊測量按鈕,即可自動(dòng)執(zhí)行對齊、基線和薄膜厚度映射。

      主要特點(diǎn)

      • 具有缺口檢測、自動(dòng)基線功能和聯(lián)鎖機(jī)制的 F50 型號(hào)

      • 自動(dòng)測量對準(zhǔn)、基線和薄膜厚度映射

      主要用途

      半導(dǎo)體抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等

      產(chǎn)品陣容

      模型F60-tF60-t-UVF60-t-NIRF60-t-EXR
      測量波長范圍380 – 1050nm
      190 – 1100nm950 – 1700nm380 – 1700nm
      膜厚測量范圍20nm – 70μm5nm – 40μm100nm – 250μm20nm – 250μm
      準(zhǔn)確性± 0.2% 薄膜厚度± 0.4% 薄膜厚度± 0.2% 薄膜厚度
      2納米1納米3納米2納米

      測量示例

      可以測量硅晶片上的氧化膜、抗蝕劑等。只需設(shè)置樣本和對齊,參考等將自動(dòng)完成。

       

      z東

      硅襯底上氧化膜的測量



      聯(lián)系人:林經(jīng)理
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