大型基板全鍍膜的離子濺射設(shè)備

濺射靶材可提供相隔 1 英寸的尺寸，例如 4'/5'/6'/7'/8'。

在形成微通道流路以及濺射薄膜制造時(shí)支持 PDMS 表面處理

配備鍍膜模式/蝕刻模式

適用于各種設(shè)備的電極膜附件

反光膜制作應(yīng)用

樣品表面親水化處理應(yīng)用（蝕刻方式）

PDMS表面處理應(yīng)用（蝕刻模式）等